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香港理工大学助理教授黄勃龙来校讲学

作者:   编辑:张双    来源:  发布时间:2016/05/23

5月9日,香港理工大学应用及生物科技学系研究助理教授黄勃龙作客材料科学与工程学院,为师生带来一场题为“Native surfactant on modifying the electronic transport and conductivity of ZnO”的学术讲座。

黄勃龙就氧化锌在表面缺陷状态起着修改主机系统的电子传输和电导率这两大关键作用进行了阐述。他表示原生缺陷状态Zn-terminated氧化锌(0001)极性表面,最低能量缺陷是O吸附原子(AO)最顶层Zn-terminated限制传导行为。锌吸附原子(下跌)是第二个最低能量缺陷在最困苦或锌丰富的化学势限制,导致表面系统与0.4 eV浅受主过渡水平高于最大价带(VBM)。“表面缺陷状态或外在掺杂物影响压倒氧化锌的内在p型导电率和运输散装系统。这让人们解决了p型氧化锌电导率和运输的新方向和表面状态的影响问题。”(材通)


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